我也是沒多久就入塵，後來爬文看了日蝕水跟無水酒精，但是都含甲醇，深怕對CMOS上的鍍膜有影響，後來只好選擇物理性治療，也就是果凍筆，不到5分鐘就搞定，縮到F22也看不到塵埃，市售還有一些CMOS清潔棉棒，也是要沾清潔液，棉花棒乾擦也有刮傷的風險，所以盡量少用。還有，很多人都說拍照不會用到那麼小的光圈，但是如果拍大景而且反差大的就有可能需要縮到11以上，甚至如果要日間長曝還要掛ND鏡，所以清潔CMOS是一定需要的，免得到時用到小光圈拍完之後才發現原來自己的感光元件多髒。
我也是沒多久就入塵，後來爬文看了日蝕水跟無水酒精，但是都含甲醇，深怕對CMOS上的鍍膜有影響，後來只好選擇物理性治療，也就是果凍筆，不到5分鐘就搞定，縮到F22也看不到塵埃，市售還有一些CMOS清潔棉棒，也是要沾清潔液，棉花棒乾擦也有刮傷的風險，所以盡量少用。還有，很多人都說拍照不會用到那麼小的光圈，但是如果拍大景而且反差大的就有可能需要縮到11以上，甚至如果要日間長曝還要掛ND鏡，所以清潔CMOS是一定需要的，免得到時用到小光圈拍完之後才發現原來自己的感光元件多髒。
